碳化硅

产品描述

6寸LN on Si 复合衬底 P级 R级 D级 可用于光纤通讯 光学器件材料 

可定制尺寸

产品摘要

6寸LN on Si复合衬底,这是一种常见的光学器件材料。LN (Lithium Niobate,氮酸锂)是一种重要的强电光材料,具有优异的电光、声光和非线性光学特性。Si (Silicon,硅)是一种常见的半导体材料,用作衬底可提供良好的机械支撑。LN薄膜通常是通过离子切割或者外延生长的方式制备在Si衬底上,形成LN on Si的复合结构。这种制备方法可以充分利用Si基板的机械性能和LN的光学性能,实现光电集成。6寸LN on Si复合衬底凭借其优异的光电性能和良好的集成化特性,在光通信、光信号处理、光存储计算、光传感等领域拥有广阔的应用前景。

产品参数

产品特性

材料组成:LN (Lithium Niobate,氮酸锂)是一种强电光材料,具有优异的电光、声光和非线性光学特性。Si (Silicon,硅)是一种机械性能良好的半导体材料,作为衬底可提供良好的支撑。

厚度:LN薄膜一般为1-5μm厚度,可根据需求定制。Si基底一般为600-725μm厚度,提供结构支撑。

光学特性:LN材料在可见光到中红外波段具有良好的光学透过性。可实现高效的电光、声光和非线性光学效应。

电学特性:LN材料具有高电阻、强电致偏振等特性,有利于电光调制。Si基底可集成电路器件,实现光电集成。

机械特性:Si基底具有优异的机械强度和刚性,可提供良好的支撑。LN/Si界面结合牢固,可承受一定的机械应力。

集成性:可实现光电器件在同一片基板上集成,降低成本和体积。有利于光电子集成电路的制造和应用。

产品应用

光通信:制造高速光调制器、光开关等关键器件。实现光电集成,提高光通信系统性能和集成度。

光信号处理:制造高速光电转换器件、光逻辑门等。应用于雷达信号处理、微波光子学等领域。

光存储与光计算:利用LN的非线性光学效应制造全光存储器件。可用于实现光逻辑运算和光存储等光计算功能。

光传感:制造光敏传感器件,应用于光纤传感、光测振等领域。利用LN的压电和声光性能实现声波和振动的光学检测。

光电集成电路:将光电子器件集成在同一Si基板上,实现光电子集成电路。可应用于光电子系统级集成,提高系统性能和集成度。

微波光子学:利用LN的电光调制特性,实现微波信号的光学调制和处理。在无线通信、雷达等领域有重要应用。